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產(chǎn)品中心薄膜、塊體樣品制備ALD原子層沉積設備PICOSUN R-200高級型ALD系統(tǒng)
高級型ALD系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介
product
產(chǎn)品分類PICOSUN™ R-200高級型ALD系統(tǒng)是ALD科研設備市場的，在擁有百用戶。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司和研究機構(gòu)的研發(fā)工具。
靈活的設計確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜，超靈活的系統(tǒng)配置也能滿足用戶未來的需求和應用。的熱壁設計、獨立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設計，使得無顆粒沉積廣泛應用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的材料。即使在挑戰(zhàn)性的多孔材料、超高深寬比和納米顆粒表面沉積，系統(tǒng)都能實現(xiàn)的均勻性，這些都歸功于我們的技術(shù)Picoflow™。Picosun™R-200高級型系統(tǒng)配備功能強大和易于更換的液體、氣體和固體前驅(qū)體源。高效率和擁有的遠程等離子選項可以沉積金屬而不發(fā)生短路，不存在等離子體損壞的危險。系統(tǒng)可集成手套箱，超高真空系統(tǒng)、手動或半自動加載系統(tǒng)，集群系統(tǒng)，粉末反應腔，卷對卷反應腔和各種在線分析系統(tǒng)，使您的研究變得高效和靈活。即使將來您改變研究領(lǐng)域，它依就會是您幫手！
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