產(chǎn)品中心
Product Center
熱門搜索：
激光粒度分析儀
納米粒度電位儀系列
真空封管機(jī)系統(tǒng)
CHI600E系列通用電化學(xué)工作站
微納3D打印機(jī)
常溫壓電d33測試儀
磁控離子濺射儀
Energylab XM 電化學(xué)工作站
VersaSCAN微區(qū)掃描電化學(xué)工作站
Bruker Hysitron Tl 980納米壓痕儀
IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀
CHI760E系列電化學(xué)工作站
GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀
材料試驗(yàn)機(jī)
1470 celltest電化學(xué)測試系統(tǒng)
VibroMet2振動拋光機(jī)
當(dāng)前位置：首頁
產(chǎn)品中心薄膜、塊體樣品制備ALD原子層沉積設(shè)備AT 200M迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
產(chǎn)品簡介
product
產(chǎn)品分類| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,綜合 |
市場上占地面積最小的 ALD（原子層沉積）工具。AT200M 體積小巧，可以放入手套箱中，因此是濕氣或空氣敏感沉積的解決方案。
占地面積?。▇ 15 in3 或 38.1 cm3）
半導(dǎo)體級元件
金屬密封管路
通風(fēng)前驅(qū)體外殼
兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，帶有超快速 MFC，用于集成惰性氣體吹掃
前驅(qū)體（最高 150°C），歧管，腔室加熱以確保無冷凝。
強(qiáng)大的 PLC 驅(qū)動用戶界面
不銹鋼腔室可加熱至 300°C。
規(guī)格：
腔室溫度從 RT 到 300°C ± 1 °C
前驅(qū)體溫度從 RT 到 150°C ± 2°C（帶加熱夾套）
市場上占地面積最小（1.6 平方英尺），臺式安裝，兼容潔凈室，也適合手套箱。
系統(tǒng)維護(hù)簡單，公用設(shè)施和前驅(qū)體使用量低。
腔室容積小
非?？焖俚难h(huán)能力。
完整的硬件和軟件互鎖，即使在多用戶環(huán)境中也能安全操作
上一個：
返回列表
